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Synopsys宣布光学/成像系统设计分析软件CODE V® 最新版本11.3发布

2019-12-19

Synopsys, Inc. 宣布其光学/成像系统设计分析软件CODE V® 最新版本11.3发布,更新项目如下:


CAD模型导入、可视化与光线追迹

  • 更新的CAD查看窗口,可导入STEP或IGES格式的CAD文档,准备CAD模型以在CODE V中使用(例如:对面进行分组、重新命名零部件和删除面),然后储存CAD模型为CODE V新的 .CFL格式文档,此文档能与表面相关联
  • 新的CAD表面类型(CDS)允许CODE V对定义于 .CFL文件中的CAD模型表面形状进行光线追迹。CDS可用于序列或非序列模式中
  • .CFL文档也可以与任何表面相关联(物面或像面除外),用于在3D查看(V3D)与CAD导出(CXP)中CAD模型的可视化


增强3D视觉

  • 改善半透明渲染,包括更好的反射面半透明渲染
  • 分开可视化CAD和镜头系统渲染模式
  • 新增不可见渲染模式
  • 在3D模型中显示表面区域坐标系


增强表面相关功能

  •  两个新的自由曲面类型:Q2D 自由曲面非球面(SPS Q2D)、扩展条纹Zernike多项式(SPS ZFE)。两种表面类型都可以包括表面坐标系的非球面偏离X和Y偏移量,并具有重新定义表面坐标系的Z轴相对于基本圆锥的Z轴的能力
  • 新的2D系数表用于SPS Q2D和SPS ZFE,为其对称条件以及R和theta依赖性提供更好的可视化及控制
  • 支持SPS ZFE与其它Zernike面型之间的转换,以及SPS Q2D与SPS QBF面型之间的转换


增强镜头管理器

  • GRIN系数现在接受「耦合」设定,以允许优化时,在所有波长下系数变化量一致
  • GUI的改进,可使字符串数据的字段自动重设大小


增强规格表与规格评价

  • 增加新的内建规格,用于评价基于主光线和PSF质心的横向色差、组件和系统重量、以及胶合组件的膨胀系数差异


增强Macro-PLUS与COM

  • 「$」运算符可以支持字符串中的分号
  • 对于加工支持提供新的宏:SAGPLOT.SEQ、SAG_DIFFERENCE.SEQ
  • 新提供的宏,主要用于眼科分析:SURFACE_POWER_PLOT.SEQ
  • ZEMAXTOCV.SEQ用于将 .ZMX文档转换到CODE V,现已更新
  • 对于环绕分布能量进行公差分析所使用的宏TOLENC.SEQ已经改善,该宏使用最近发布的Enclosed_Energy() 宏函数,并且支持环绕矩形能量的计算
  • 新的CodeV.Application API改善了与CODE V 11.3及更高版本所支持所有语言的兼容性
  • ENVPIK相关宏已更新,可用于CODE V 11.3。可在官网的Customer Support Portal中获得


 关于 Synopsys OSG
Synopsys 公司为全球知名IP半导体设计、验证与制造大厂,于2010年10月并购Optical Research Associates公司之后正式跨足光学设计领域,成立光学解决方案部继续光学产品CODE V / LightTools以及RSoft的开发作业。
 
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